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Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
Wissenschaftliche Mitarbeiter

M.Sc. Thorsten Sezgin-Oeder


Weitere Informationen

  • Lehre: Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
    2007 - 2010, Industriemechaniker für Feingerätebau
  • Hochschule Karlsruhe - Technik und Wirtschaft
    2010 - 2014, Bachelor of Engineering (B.Eng.), Elektrotechnik, Energie- und Automatisierungstechnik 
  • Hochschule Reutlingen - Robert Bosch Zentrum für Leistungselektronik (rbz)
    2014 - 2017, Master of Science (M.Sc.), Leistungs- und Mikroelektronik 
  • University of Nottingham - Power Electronics, Machines and Control Group (PEMC)  
    2016 - 2017, Visiting Researcher
  • TU Dortmund - Lehrstuhl für Energiewandlung
    Seit 2017, Wissenschaftlicher Mitarbeiter
  • ​​​​​​Halbleiter-Physik - Moderne Leistungshalbleiter - GaN HEMTs
  • Analytische und numerische Modellierung von GaN HEMTs (Physik-basierte Kompaktmodellierung)
  • Messtechnische Charakterisierung von GaN HEMTs (Statische und dynamische Erfassung von HEMT Eigenschaften, Zuverlässigkeitsanalyse)
  • Mohammad Harbaji
    Entwicklung eines analytischen Kompaktmodells der Gate-Struktur von p-Gate GaN HEMTs in Verilog-A
    Bachelorarbeit, August 2021
  • Bohua Zhang
    Development of a Surface-Potential-Based Compact Model for p-Gate GaN HEMTs in Verilog-A, involving a Measurement-Assisted Parameter Extraction Methodology
    Masterarbeit, Juli 2021
  • Refaat Al Nouri
    Entwicklung eines Prüfkonzepts und Validierung eines isolierten SiC-basierten DC/DC-Wandlers, für die Ladeinfrastruktur von Elektrofahrzeugen
    Masterarbeit, Juli 2021
  • Lukas Ciesiolka
    Experimentelle Charakterisierung der Auswirkung von Gate-Stress induzierten Schwellspannungs-Instabilitäten bei p-Gate AlGaN/GaN HEMTs
    Masterarbeit, März 2021
  • Lukas Knappstein
    Development and Construction of a sequentially extendable Measurement Setup for Characterizing the Degradation of AlGaN/GaN HEMTs
    Masterarbeit, Jannuar 2021
  • Yannik Bieker
    Entwicklung einer Temperaturregelung zur thermischen Charakterisierung moderner Leistungshalbleiter
    Bachelorarbeit, Juni 2019
  • Alem Basic
    Einfluss des Gate-Source-Widerstands auf die Gate-Charakteristik bei GaN-HEMTs
    Bachelorarbeit, Oktober 2018
  • Simon Stehr
    Gegenüberstellung von material- und technologiebasierten Limitierungen moderner Leistungshalbleiter
    Fachwissenschaftliche Projektarbeit, August 2018

Publikationen

Oeder, T.; Pfost, M.: Threshold Voltage Behavior and Short-Circuit Capability of p-Gate GaN HEMTs Depending on Drain- and Gate-Voltage Stress, IEEE Workshop on Wide Bandgap Power Devices and Applications,  Los Angeles CA, USA, 10.2022, doi: 10.1109/WiPDA56483.2022.9955266

Oeder, T.Pfost, M.Schwellenspannung und Zuverlässigkeit von p-Gate GaN HEMTs, Halbleiterkolloquium, Freiburg, 10.2022

Oeder, T.Pfost, M.Schwellenspannungs-Instabilitäten von p-Gate GaN HEMTs, Halbleiterkolloquium, Freiburg, 10.2021

Oeder, T.; Pfost, M.: Gate-Induced Threshold Voltage Instabilities in p-gate GaN HEMTs, IEEE Transaction on Electron Devices (Journal), 09.2021, doi: 10.1109/TED.2021.3098254

Oeder, T.; Pfost, M.: Gate-Stress-Induced Threshold Voltage Instabilites, a Comparison of Ohmic and Schottky p-Gate GaN HEMTs, IEEE Workshop on Wide Bandgap Power Devices and Applications,  Kyoto, JPN, 10.2020, doi: 10.1109/WiPDAAsia49671.2020.9360288

Oeder, T.; Pfost, M.: Applikationsrelevante Auswirkungen von Ladungsträger Trapping, ein Vergleich von Ohmschen und Schottky p-Gate GaN HEMTs , Halbleiterkolloquium, Freiburg, 10.2019

Oeder, T.; Pfost, M.: Impact of Carrier Accumulation on the Transient Behavior of p-Gate GaN HEMTs , ISPSD2019 - The 31th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs, Shanghai, CHN, 05.2019, doi: 10.1109/ISPSD.2019.8757570

Oeder, T.; Pfost, M.; D'Aniello, F.; Fayyaz, A.; Castellazzi, A.: Damage Accumulation in GaN GITs Exposed to Repetitive Short-Circuit , ISPSD2019 - The 31th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs, Shanghai, CHN, 05.2019, doi: 10.1109/ISPSD.2019.8757692

Oeder, T.; Pfost, M.: Einfluss akkumulierter Ladung auf das transiente Verhalten bei p-Gate GaN HEMTs , Halbleiterkolloquium, Freiburg, 10.2018

Oeder, T.; Pfost, M.; Castellazzi, A. ; Fayyaz, A. ; Zhu, S.: Single pulse short-circuit robustness and repetitive stress aging of GaN GITs , Reliability Physics Symposium (IRPS), 2018 IEEE International, Burlingame, CA, USA, 03.2018, doi: 10.1109/IRPS.2018.8353593

Oeder, T.; Pfost, M.: Elektrisch limitierende Eigenschaften von 600 V p-Gate GaN HEMTs , Halbleiterkolloquium, Freiburg, 10.2017

Oeder, T.; Pfost, M.; Castellazzi, A.: Electrical and thermal failure modes of 600 V p-gate GaN HEMTs , ESREF2017 - 28th European Symposium on Reliability of Electron Devices, Failure Physics and Analysis, Bordeaux, FRA, 07.2017, Microelectronics Reliability (Journal), doi: 10.1016/j.microrel.2017.06.046

Oeder, T.; Pfost, M.; Castellazzi, A.: Experimental study of the short-circuit performance for a 600V normally-off p-gate GaN HEMTs , ISPSD2017 - The 29th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs, Sapporo, JPN, 06.2017, doi: 10.23919/ISPSD.2017.7988925